2022第四届中国深圳国际光刻胶材料展会定于2022年08月23日-25日于深圳国际会展中心举办CIME2022第四届深圳国际新材料展为主题展。下设胶粘剂及密封剂展、薄膜与胶带展、点胶技术及设备展同期将召开多场技术研讨会及活动，邀请国内外专家与参会代表前来互动交流，探讨行业发展趋势，分享各自取得的经验成果，同时也向国际光刻胶材料行业展再迈进坚实的一步！届时，热忱欢迎国内外的光刻胶材料企业及其相关行业人士前来参观与交流！
展览时间
报道布展：2022年08月21-22日 开幕式: 2022年08月23日
展览展示：2022年08月23-25日 撤 展: 2022年08月25日
目标观众：我们重点邀请全国、省、市、各相关科研单位、电子设备与生产、电子电器、通讯设备、照明、消费电子、微电子、光电子、电源、家电、仪器仪表、微机械、精密器械、可穿戴设备、智能产品、计算机/电脑、SMT 产品加工、LCD、SMT/EMS、LED 光电产品、商标标牌、五金精密模具、电机马达、光学仪器、手机、开关及连接器、 电子玩具、喇叭、蜂鸣器、集成电路、半导体、印制电路、汽车制造及电子、传感器、敏感元件、电工电气、电子元器件、物联网、控制自动化、光伏能源、扬声器、航空航天、医疗器械、电磁屏蔽、工艺与礼品、包装及广告、灌封及密封、等企业主管人员到会参观、洽谈。
参展范围：
1.PCB光刻胶、干膜光刻胶、湿膜光刻胶、LCD光刻胶、TFT正性胶、彩色光刻胶、黑色光刻胶、G线光刻胶、线光刻胶、KRF光刻胶、ARF光刻胶、CCD摄像头彩色滤光片光刻胶、MEMS光刻胶、触摸屏透明光刻胶、生物芯片光刻胶、LED光刻胶、半导体光刻胶等：
2.高粘度光刻胶、EUV光刻胶、干法光刻胶、化工艺光刻胶、半导体高端光刻胶、光刻胶配套试剂（PSPI）光刻胶、正性光刻胶、紫外线正胶、紫外线负胶、光刻胶光敏剂、光刻胶残胶收集装置、光刻胶专用化学品、光刻胶的显影和剥离、涂胶显影设备、彩色光刻胶、光敏聚酰亚胺、聚酰亚胺（PI）、光刻胶材料、光刻工艺材料、光刻胶单体材料、半导体化合物、光刻胶聚合物。
3.ASML光刻机、IC前道光刻机、紫外光刻机（EUV）光学、光刻设备、光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）光刻胶树脂、光刻胶去除剂、溶剂、螯合剂、 缓蚀剂、光致产酸剂、锆前驱体集、生产、检测等
参展细则：
★ 标准展位（少9m2）配置：围板，地毯，一张咨询桌，二张折椅，参展商公司楣牌，一个220伏单相插座。
★ 光地（36 m2起租）配置：展出空场地，搭建费、光地管理费、电源费等费用全部由企业另行支。
联系方式
联系人：李东
地址：上海市青浦区章练塘路958弄36号601室
手机：13916473058
电话：021-59250197
传真：021-59250197
Email：shfulunzl@163.com
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